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磁控濺射方法制備直徑120mm高均勻性Mo/Si多層膜

放大字體  縮小字體 更新日期:2018-11-26  瀏覽次數:11
摘 要:為滿足極紫外、軟X射線和X射線大口徑多層膜反射鏡的需求,采用基板掃掠過矩形靶材表面的鍍膜方法,在直徑120 mm的平面基板上鍍制了Mo/Si周期多層膜。通過調整基板掃掠過矩形靶材表面的速率修正了薄膜的
  • 【題 名】磁控濺射方法制備直徑120mm高均勻性Mo/Si多層膜
  • 【作 者】潘磊 王曉強 張眾 朱京濤 王占山 李乙洲 李宏杰 王道榮 趙巨巖 陸偉
  • 【機 構】同濟大學物理系精密光學工程技術研究所 上海市特殊人工微結構材料與技術重點實驗室 上海200092 中國運載火箭研究院試驗物理與計算數學實驗室 北京100076
  • 【刊 名】《強激光與粒子束》2010年 第7期 1535-1538頁 共4頁
  • 【關鍵詞】Mo/Si多層膜 磁控濺射 均勻性 反射率 同步輻射
  • 【文 摘】為滿足極紫外、軟X射線和X射線大口徑多層膜反射鏡的需求,采用基板掃掠過矩形靶材表面的鍍膜方法,在直徑120 mm的平面基板上鍍制了Mo/Si周期多層膜。通過調整基板掃掠過矩形靶材表面的速率修正了薄膜的沉積速率,極大地提高了薄膜厚度的均勻性。采用X射線衍射儀對反射鏡不同位置多層膜周期厚度進行了測量,結果表明,在直徑120 mm范圍內,Mo/Si多層膜周期厚度的均勻性達到了0.26%。同步輻射測量多層膜樣品不同位置處的反射率,結果表明,在直徑120 mm范圍內,多層膜的膜層厚度均勻,在入射角10°時13.75 nm波長處平均反射率為66.82%。
 
本文導航:
  • (1) Mo/Si多層膜,磁控濺射,均勻性,反射率,同步輻射
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